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第76章 真的没办法了吗（第2页）

他已经连续工作超过四十八小时了，眼白里布满了红血丝，下巴上也冒出了青色的胡茬，身上那件浅灰色的衬衫皱巴巴的，领口鬆了两颗扣子。

他的手指悬在键盘上方，微微颤抖著。

屏幕上是他这几个月一直在攻克的euv光刻误差修正模型，一个基於变分法的正则化框架。

从理论上来说，这个框架应该能够有效抑制光学像差和光刻胶的三维形变。

理论上。

罗华深吸一口气，按下了运行键。

程序开始执行，进度条缓慢地向前爬行。

他靠在椅背上，抬手揉了揉太阳穴。

实验室里安静得只剩下伺服器风扇的低沉嗡鸣，还有他自己的心跳声。

砰，砰，砰。

每一次心跳，都像是在提醒他：时间不多了。

作为国內光刻计算领域最年轻的博士毕业生，罗华23岁就跟著国內光刻仿真泰斗陈云邦院士学习。

他天赋出眾，又肯拼命，短短两年就在几本前沿的期刊上发了论文，被圈內人称为“后起之秀”。

但他自己知道，这远远不够。

尤其是在三天前的wclc上，亲眼看著佐藤健一郎站在台上，用那种轻蔑的语气说出“华国朋友若想造高端晶片，直接购买我们的授权即可”时，罗华感觉自己整个人都要炸了。

他当时就坐在华国代表团的后排，拳头攥得死紧，指甲几乎要嵌进掌心。

他想站起来反驳，想衝上台去质问佐藤你的数据到底有没有问题，你的模型到底经不经得起推敲。

但他不能。

因为佐藤有论文，有成果，有国际学术圈的话语权。

而他们呢？

他们还在追赶，还在摸索，还在为每一个百分点的良率提升而绞尽脑汁。

那种无力感，像是一块巨石压在胸口，沉重得让人喘不过气。

回国后的这两天，罗华几乎没合过眼。

他把自己关在实验室里，疯狂地修改模型，调整参数，试图在佐藤那个框架之外，找到一条新的路。

但进展微乎其微。

光刻数学这个领域，太深了。

它需要扎实的数学功底，需要深刻的光学物理理解，需要海量的实验数据支撑，还需要一点点……灵感。

而灵感这种东西，在你最需要它的时候，往往离你最远。

“罗师兄，你还不回去休息？”

实验室的门被推开，一个扎著马尾辫的女生探进头来，是研二的师妹林小雨。

她手里端著两杯咖啡，看到罗华这副模样，眉头立刻皱了起来。

“你这都熬了两天两夜了，再这样下去身体会垮的。”

罗华接过咖啡，道了声谢，声音沙哑：“没事，我再看看。”

“看看看，看有什么用？”

林小雨急了，“陈老师早上还问我，说你是不是又在实验室通宵了。他让你注意身体，科研不是一朝一夕的事。”

这时，又有两个男生走了进来，是罗华的师弟胡伟和马立明。

他们刚做完一组仿真实验，脸上也带著疲惫。

“罗师兄，你还是回去吧。”

胡伟劝道，“佐藤那件事，大家都憋著火，但光憋著没用啊。咱们得慢慢来，一步一步走。”